ANJ-PUCD組合除臭設備采用的工藝流程如下：


ANJ-PUCD組合除臭設備工藝流程及原理簡(jiǎn)述：
        ANJ-PUCD組合除臭設備由PD區、UD區、CD區組成。
        其中，PD區采用了獨特的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設計，無(wú)需再生處理原料，無(wú)需專(zhuān)人負責，不產(chǎn)生二次污染。該區采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級的時(shí)間內，瞬間對進(jìn)入PD區的氣體內的有害分子進(jìn)行氧化還原反應，將廢氣中的污染物降解成CO2、H2O及易處理的物質(zhì)。
        UD區利用特制的高能高臭氧光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類(lèi)、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無(wú)機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能光束作用下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。高能光束同時(shí)將空氣中的氧分子分解產(chǎn)生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。眾所周知，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它感激性異味有立竿見(jiàn)影的清除效果。有機惡嗅氣體通過(guò)本區后，凈化運用高能光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA）。
        CD區內填裝高活性吸附填料，高活性吸附填料具有巨大的比表面積，以及精細的多孔表面結構能將PD區、UD區未能分解去除的惡臭氣體吸附去除。